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电子工业纯化水设备
北京EDI超纯水设备流程图电子研究所EDI超纯水项目成套设备,电子部超纯水水质标准(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级)
设计原则: ☆ 品质---依照客户生产所需超纯水的水质要求及生产特点,并考虑水源的水质(需客户提供水质分析报告或源水样品)。
☆ 可扩充性—系统分段设计规划,考虑就近用水和生产安全需要,可依照生产线需求随时扩充产能,客户可分阶段投资。
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗电子管生产 电子管阴极涂敷碳酸盐配液 显像管和阴极射线管生产配料用纯水 黑白显像管荧光屏生产 玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水液晶显示器的生产 屏面需用纯水清洗和用纯水配液晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制 集成电路生产中高纯水清洗硅片。
二、典型工艺流程
预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)
预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(最新工艺)
预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ.CM) (最新工艺)     
预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(最新工艺)
处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺)北京EDI超纯水设备.